國產光刻機取得突破，ASML立刻示好，外媒：用上隱藏手段

ASML首席執行官彼得溫寧克

在轉變態度的同時，很多外媒也傳來了ASML將向中國增加光刻機銷售的傳聞，這實際上是再次用上了以前使用過的手段。在上海微電子突破90nm光刻機之后，美國等西方國家就立刻修改了《瓦森納協議》，允許出售90nm及以下光刻機，而ASML也趁機大量出貨65nm光刻機，使得剛剛取得突破的上海微電子難以獲得訂單。

耗費大量資源研制出的光刻機卻乏人問津，這也使得上海微電子一度陷入了困境，由于難以憑借銷售光刻機獲得利潤也極大延緩了研發的進度，這也是為何上海微電子到2023年才能夠推出28nm光刻機的重要原因。

國產芯片

如今隨著國產28nm光刻機取得突破，ASML試圖故技重施，通過大量出售28nm光刻機來擠壓國產光刻機的市場和利潤，從而延緩先進制程光刻機的研發，這是一個「陽謀」。

上一次我們因為這個「陽謀」而延誤了光刻機的研發，那麼這一次故事的結局會不一樣嗎？