美国警告：中国已掌握EUV光刻机？ASML：绝无可能！美方说有证据

荷兰的立场与ASML的商业现实

荷兰外交部也同步发布官方声明，在半导体制造设备的出口管理层面，荷兰执行明确的规则和相应的管制清单，所有被纳入管制范围的设备，对外出口前都必须申请对应的专项许可证。

相关部门补充说明，荷兰方面正在严格执行所有相关管制政策，后续也会在必要环节直接采取干预措施。

与此同时，这场争端也暴露了美国盟友间出口管制的差异，美国半导体设备制造商抱怨，荷兰和日本对华限制滞后于美国，使其处于竞争劣势。

而ASML预计2026年约20%的营收来自已获许可的对华销售，这使其有强烈的财务动机确保合规。

在另一个层面，ASML仍获准向中国出口技术等级较低的干式深紫外光刻机，而技术更为先进的浸没式DUV系统同样在禁运名单上。

浸没式系统在最终透镜与硅晶圆之间注入超纯水，利用水的折射率远高于空气的特性有效缩短光波波长，是7纳米以下芯片制造的重要过渡方案。

中国正趁现行规则仍允许时加快囤积可购的DUV设备，以应对更严格的监管，美国并未止步于对EUV的质疑。

2026年4月，美国众议院提出一项名为《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act）的新立法草案。

该法案的核心变化，是从原先只限制EUV极紫外光刻机，进一步扩大至DUV浸润式深紫外光刻机。